PN结接触电势差通常是指PN结形成后，在P型和N型半导体接触界面处产生的电势差。这个电势差并不是内建电场，而是由内建电场引起的。
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在PN结形成时，由于P型半导体中掺杂的空穴和N型半导体中掺杂的电子浓度不同，当两者接触时，自由电子和空穴会向对方扩散，直到达到电荷平衡。这个过程会导致P型半导体一侧留下正电荷，而N型半导体一侧留下负电荷，从而在PN结处形成内建电场。
内建电场是由PN结两侧的电荷分布产生的，它的方向是从N型半导体指向P型半导体。这个电场会阻碍更多的电子和空穴在PN结附近扩散，从而形成空间电荷区。PN结接触电势差就是内建电场在空间电荷区产生的电势差。
总结来说，PN结接触电势差是由内建电场引起的，但电势差本身并不是内建电场。
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